川宏立式低溫水浴鍋內(nèi)外循環(huán)恒溫水槽自帶制冷和加熱的高精度恒溫源，可在機(jī)內(nèi)水槽進(jìn)行恒溫實(shí)驗(yàn)，或通過軟管與其他設(shè)備相連，作為恒溫源配套使用。泛用于石油、化工、電子儀表、物理、化學(xué)、生物工程、醫(yī)藥衛(wèi)生、生命科學(xué)、輕工食品、物性測試及化學(xué)分析等研究部門，高等院校，企業(yè)質(zhì)檢及生產(chǎn)部門，為用戶工作時(shí)提供一個(gè)熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，對試驗(yàn)樣品或生產(chǎn)的產(chǎn)品進(jìn)行恒定溫度試驗(yàn)或測試

更新時(shí)間：2025-12-18

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產(chǎn)品型號(hào)：CHDC-3010

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

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產(chǎn)品介紹：

品牌	其他品牌	溫度穩(wěn)定性	0.01℃
溫度范圍	-30-100℃	水浴槽容積	10L
溫控功能	制冷/加熱型	價(jià)格區(qū)間	1萬-2萬
循環(huán)功能	內(nèi)外循環(huán)	儀器種類	恒溫浴槽
產(chǎn)地類別	國產(chǎn)	應(yīng)用領(lǐng)域	環(huán)保,食品/農(nóng)產(chǎn)品,化工,生物產(chǎn)業(yè),制藥/生物制藥

川宏立式低溫水浴鍋內(nèi)外循環(huán)恒溫水槽主要特征：

●采用全封閉壓縮機(jī)制冷，制冷系統(tǒng)具有過熱、過電流多重保護(hù)裝置

●具有內(nèi)外循環(huán)作用，循環(huán)泵可以把槽內(nèi)被恒溫液體外引,建立第二恒溫場

●采用全自動(dòng)PID溫度設(shè)定程序及溫度傳感器，控溫精度高。溫度數(shù)字顯示。

●大屏幕液晶顯示，數(shù)據(jù)清晰，外形美觀，個(gè)性化界面讓工業(yè)控制不再單調(diào)。

●機(jī)身外殼采用鏡面防老化靜電噴漆技術(shù)，內(nèi)膽、臺(tái)面均為不銹鋼，清潔衛(wèi)生，美觀耐腐蝕。

●槽內(nèi)冷液可外引,冷卻機(jī)外實(shí)驗(yàn)容器,也可在槽內(nèi)直接進(jìn)行低溫、恒溫實(shí)驗(yàn)。

川宏立式低溫水浴鍋內(nèi)外循環(huán)恒溫水槽

川宏立式低溫水浴鍋內(nèi)外循環(huán)恒溫水槽技術(shù)參數(shù)：

型號(hào)	溫度范圍 ℃	溫度波動(dòng)度℃	控溫精度℃	工作槽容積 mm3	工作槽開口mm2	槽深 mm	循環(huán)泵流量L/min	排水
CHDC-3006	﹣30～100	±0.1	0.1	250×200×150	180×140	150	6	有
CHDC-3010	﹣30～100	±0.1	0.1	250×200×200	180×140	200	6	有
CHDC-3015	﹣30～100	±0.1	0.1	300×250×200	235×160	200	6	有
CHDC-3020	﹣30～100	±0.1	0.1	280×250×300	235×160	300	6	有
CHDC-3030	﹣30～100	±0.1	0.1	420×330×230	310×280	230	13	有

應(yīng)用領(lǐng)域

低溫恒溫槽作為現(xiàn)代實(shí)驗(yàn)室及工業(yè)生產(chǎn)中需要的精密溫控設(shè)備，應(yīng)用領(lǐng)域廣泛，以下為您詳細(xì)介紹：
生物醫(yī)藥領(lǐng)域
藥物研發(fā)與儲(chǔ)存：為藥物研發(fā)、疫苗儲(chǔ)存提供穩(wěn)定且精確的低溫環(huán)境，確保藥物和疫苗的活性與有效性，保證了實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性和可重復(fù)性。在基因工程研究中，還能精確控制 DNA、RNA 等生物分子的保存與操作溫度。
細(xì)胞培養(yǎng)與生物酶活性測試：在細(xì)胞培養(yǎng)、藥物篩選、酶促反應(yīng)等生物實(shí)驗(yàn)中，為細(xì)胞、酶及微生物等生物樣本提供穩(wěn)定的生存環(huán)境，是生物科技研究的重要工具。
臨床治療：在醫(yī)療臨床治療中也有重要應(yīng)用，如超導(dǎo)磁共振、直線加速器、CT、低磁場核磁共振、X光機(jī)、醫(yī)用冷帽、降溫毯等。
材料科學(xué)領(lǐng)域
材料性能測試：無論是高分子材料的低溫性能測試，還是金屬材料的低溫相變研究，都能提供理想的實(shí)驗(yàn)條件，助力科研人員探索材料的極限性能與潛在應(yīng)用。還可用于檢測材料是否耐低溫、耐高溫、耐腐蝕等。
特定材料研究設(shè)備配套：適用于電鏡、X 射線衍射、X 熒光、真空濺射電鍍、真空鍍膜機(jī)、ICP 刻蝕、各種半導(dǎo)體設(shè)備、疲勞試驗(yàn)機(jī)、化學(xué)沉積系統(tǒng)、原子沉積系統(tǒng)等。
化學(xué)合成與催化反應(yīng)領(lǐng)域
在化學(xué)合成與催化反應(yīng)中，通過精確調(diào)控反應(yīng)體系的溫度，不僅優(yōu)化了反應(yīng)效率，還促進(jìn)了新型催化劑與合成路徑的發(fā)現(xiàn)。也可用于化學(xué)反應(yīng)的溫度控制、物質(zhì)性質(zhì)研究、樣品保存等，確保實(shí)驗(yàn)條件的一致性，提高實(shí)驗(yàn)結(jié)果的可靠性。
環(huán)保與新能源技術(shù)領(lǐng)域
在鋰離子電池的研發(fā)與測試中，用于模擬j端環(huán)境下的電池性能，為提升電池的低溫續(xù)航能力與安全性提供關(guān)鍵技術(shù)支持。
工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域
在半導(dǎo)體制造、電子元器件測試、精密機(jī)械加工等行業(yè)中，用于控制工藝過程中的溫度環(huán)境，保障產(chǎn)品質(zhì)量和生產(chǎn)效率。

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